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標題: [手機情報] Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電 [打印本頁]

作者: sun7005    時間: 2022-11-23 09:54 AM     標題: Samsung 與美國晶片公司合作,有望切底改善 3nm 良率超越台積電

曾經 Samsung 可是一大晶片巨頭,不僅市場份額大,而且口碑也一直不錯。不過如今卻沒落,最終不抵台積電。11 月19 日消息,韓媒 Naver 報導,Samsung 已經與美國的 Silicon Frontline Technology 公司合作,以便能夠提高其半導體晶片在生產過程中的良率,望重新贏得市場,並在 3nm 工藝上超越台積電。公仔箱論壇# U: F1 Q6 u% ^& s) r4 e
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事實上,Samsung 電子先進製程良率非常低,自從 5nm 開始就一直存在問題,到 4nm 後問題更是嚴重,其中核心問題就是良率低,據傳 3nm 至今的良率甚至還不到 20%,導致量產進度陷入瓶頸。
% Y0 v6 R3 H1 d0 Q# u/ X% P因此 Samsung 希望能通過和 Silicon Frontline Technology 公司合作,幫助 Samsung 進行前端(front-end)工藝和晶片性能改進。TVBNOW 含有熱門話題,最新最快電視,軟體,遊戲,電影,動漫及日常生活及興趣交流等資訊。4 ]/ V3 r: F  L4 m- g% J
據了解,這家美國公司提供晶片鑑定評估和 ESD(靜電放電)預防技術。 ESD 是造成半導體晶片缺陷的主要原因之一,是由製造過程中設備和金屬之間的摩擦造成的。' R) S+ P/ s7 L8 h' s
據報導,Samsung 在晶片設計和生產過程中已經與 Silicon Frontline 公司合作了很長一段時間,並且也取得了令人滿意的結果。
0 ?8 y9 Z! H6 A8 z4 T/ C公仔箱論壇目前 Samsung 已經在晶片驗證過程中使用了該公司的最新技術,並且有望切底改善良率低的問題。




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