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標題: [其它] iPhone X 的最「遺憾設計」,明年將會得到改善! [打印本頁]

作者: sun7005    時間: 2018-1-23 08:46 AM     標題: iPhone X 的最「遺憾設計」,明年將會得到改善!

Apple 推出 iPhone X 後,大家的焦點並不是投放在那個創新的「Face ID」面部識別上,因為那個被喻為最「遺憾設計」的瀏海屏幕已經蓋過了一切。如今有據知是來自供應鏈的消息,表示這個設計最快於明年獲得改善。

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據韓國 ET News 報導指出,有來自行業的消息透露,Apple 計劃在 2019 年改良 iPhone X 系列產品的面部識別功能。現時 Apple 已經在增加相關組件的採購工序,而改良後的面部識別組件體積將會大大減少,有望在兼顧功能的同時,亦令設計可以更為美觀,從而令到「瀏海」設計可以做到影響最小。

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現時 iPhone X 的瀏海式設計,主要原因是內置了一組 Faee ID 的感應器,包括 RGB 前置鏡頭、紅外線鏡頭、光度感應器、收音咪、揚聲器等等。如果這個位置的一堆感應器可縮小的話,相信所占用的空間自然會減少,令到瀏海不再這樣明顯。




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