標題: [其它] iPhone X 的最「遺憾設計」，明年將會得到改善！ [打印本頁] 作者: sun7005 時間: 2018-1-23 08:46 AM 標題: iPhone X 的最「遺憾設計」，明年將會得到改善！
Apple 推出 iPhone X 後，大家的焦點並不是投放在那個創新的「Face ID」面部識別上，因為那個被喻為最「遺憾設計」的瀏海屏幕已經蓋過了一切。如今有據知是來自供應鏈的消息，表示這個設計最快於明年獲得改善。
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據韓國 ET News 報導指出，有來自行業的消息透露，Apple 計劃在 2019 年改良 iPhone X 系列產品的面部識別功能。現時 Apple 已經在增加相關組件的採購工序，而改良後的面部識別組件體積將會大大減少，有望在兼顧功能的同時，亦令設計可以更為美觀，從而令到「瀏海」設計可以做到影響最小。
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現時 iPhone X 的瀏海式設計，主要原因是內置了一組 Faee ID 的感應器，包括 RGB 前置鏡頭、紅外線鏡頭、光度感應器、收音咪、揚聲器等等。如果這個位置的一堆感應器可縮小的話，相信所占用的空間自然會減少，令到瀏海不再這樣明顯。
